泉崎横穴における岩盤と顔料の潜在変数の学習による分光壁画解析

概要

本研究では,泉崎横穴の壁画の解析を目的とし,分光画像から岩盤と顔料の潜在変数を学習する手法を提案する.本手法では,オートエンコーダにおいて岩盤と顔料を別々のデコーダで表現し,二段階で学習を行った.まず岩盤のデコーダのみを学習し,その後に岩盤のデコーダを固定した状態で顔料のデコーダを学習することで,両者を分離して推定可能にした.また,物理モデルに基づいてスペクトルを再構成することで,潜在変数の一部を顔料の光学的厚み・照度として解釈可能にした.実際に計測した泉崎横穴データに対して実験を行い,評価を行った.

収録
情報処理学会 コンピュータビジョンとイメージメディア研究会
引用
"泉崎横穴における岩盤と顔料の潜在変数の学習による分光壁画解析," CVIM , vol. 2025-CVIM-243, no. 29, pp. 1-6, 2025.